自清洁磨抛工具（专利号：201210111544.6）

日期: 2015-03-30浏览:

专利号：	201210111544.6
申请日：	2012/4/16
授权公告日：	2013/11/6
专利权人：	大连理工大学
发明人：	郭东明;高航;康仁科;王旭

摘要：
本发明涉及一种自清洁磨抛工具，是一种在中心供液实现磨抛的同时通过真空吸附自清洁外溢磨抛液和磨抛屑的磨抛工具，由加压单元、供液和清洁单元和磨抛工作单元组成。加压单元用于调整磨抛压力；供液和清洁单元完成通入磨抛介质和抽真空吸收磨抛介质；磨抛工作单元完成磨抛作用。磨抛工具在计算机控制下以一定轨迹运动，实现大平面的全局平坦化。本装置的有益效果是：实现从磨抛头的中心通入磨抛介质，使磨抛介质与被磨抛材料接触更加充分，提高了磨抛质量和磨抛效率；通过磨抛工具外环的抽真空孔道，及时将参与磨抛后的磨抛介质吸走，防止污染已磨抛表面，起到了边磨抛、边清洁工件表面的自清洁作用，节省了后续的清洗工序，提高了加工效率。

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