专利号：
2010800671383
申请日：
2010/10/13
授权公告日：
2015/06/24
专利权人：
大连理工大学
发明人：
李晓娜；张心怡；朱瑾；王清；董闯
摘要：
一种低电阻率、高热稳定性的Cu-Ni-Mo合金薄膜，其中以Ni作为固溶元素，Mo作为扩散阻挡元素；Mo/Ni原子百分比比例为0.06-0.20或重量百分比比例0.10-0.33；Ni和Mo的原子百分比或重量百分比为0.14-1.02%。该薄膜同时具有扩散阻挡和高温稳定性。
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