专利号: |
2013102800505 |
申请日: |
2013/07/04 |
授权公告日: |
2015/08/19 |
专利权人: |
大连理工大学 |
发明人: |
张贵锋;侯晓多;邓德伟 |
摘要:
一种提高电化学法合成硬碳膜中金刚石含量的方法,属于先进材料制备的技术领域,涉及到液相电化学沉积类金刚石薄膜。其特征是在反应液中通入氧化剂臭氧气体,由臭氧分解的大量活性氧原子对伴生石墨相有强的刻蚀作用,从而提高薄膜中金刚石相的相对含量。本发明的效果和益处是:活性氧原子有效地抑制了石墨相的生长,使沉积薄膜中的金刚石相对量提高;通入臭氧气体对反应液其搅拌作用,可调节反应温度,提高沉积薄膜的均匀性。