专利号： |
2009100102682 |
申请日： |
2009/1/20 |
授权公告日： |
2012/1/25 |
专利权人： |
大连理工大学 |
发明人： |
高航；王碧玲；郭东明；康仁科 |
摘要：
本发明公开了一种非水基无磨料化学机械抛光液，适用于软脆易潮解晶体的抛光。其组成成分是：按重量百分比，油相为40～65％，去离子水为10～22％，余量为表面活性剂。油相为醇或酯的一种，表面活性剂可以采用非离子表面活性剂高碳脂肪醇聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚、聚乙二醇辛基苯基醚或聚氧乙烯酰胺的一种。其有益效果是该抛光液配制方法简单，流动性好，无毒、无污染、无腐蚀，稳定性好，不易挥发，使用寿命长。被抛样品表面光洁，粗糙度可达1.7nm，表面无划痕、损伤等缺陷，在室温密闭条件下可以永久保存。
