专利成果

一种制备无机膜中间层的方法(专利号:200810012457.9)

日期: 2015-03-30浏览:
专利号: 200810012457.9
申请日: 2008/7/20
授权公告日: 2011/9/14
专利权人: 大连理工大学
发明人: 杨建华;王金渠;鲁金明;孔春龙;初乃波;周志辉;殷德宏;张艳

摘要:
    本发明公布了一种制备无机膜中间层的方法,属于化学工程技术领域。其特征是将开发了热涂敷法,将传统的涂敷和干燥分开的两过程同时在瞬间进行,克服了传统涂敷方法制膜的易龟裂,有缺陷,膜层厚的缺点,制备孔径可在50-2nm范围内调控的无机中间层,主要涉及溶胶凝胶的制备、溶胶凝胶的新涂敷方法以及中间层孔径的调控。该方法具有很强的广谱性,通过选择相宜的陶瓷材料,制备对分离层合成化学氛围如碱性或酸性的相适应的中间层,而且通过对孔径的调控,可以满足分离层制备的要求。本发明可用于致密或多孔陶瓷,石英,玻璃,硅片或金属材料基底制备三氧化二硅,三氧化二锆,三氧化二钛,及其复合氧化物等材料中间层。