用于大尺寸金刚石晶圆超精密低损伤抛光的抛光液及制备方法（专利权人：200810012181.4）

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专利号：	200810012181.4
申请日：	2008/7/3
授权公告日：	2011/10/19
专利权人：	大连理工大学
发明人：	金洙吉;苑泽伟;董伯先;康仁科

摘要：
本发明属于超硬材料抛光技术领域，公开了一种用于大尺寸金刚石晶圆超精密低损伤抛光的抛光液及制备方法。其特征是采用氧化能力较强的氧化剂包括三氧化铬、过硫酸铵、高锰酸钾、重铬酸钾、双氧水、高铁酸钾、高氯酸钾等作为主要成分，加入适量的磨料配制抛光液，在常温或较低的温度条件下，借助化学和机械复合作用即可实现金刚石晶圆表面材料的微量去除。此外，还通过添加适量的催化剂、稳定剂、分散剂等以提高抛光液的抛光效果。本发明的效果和益处是所制备的抛光液具有抛光效率高、抛光质量好、稳定性良好等优点，能够在常温或低温条件下实现大尺寸金刚石晶圆的超精密低损伤抛光。