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一种化学机械磨削液制备方法(专利号:200910010463.5)
日期: 2015-03-30
浏览:
专利号:
200910010463.5
申请日:
2009/2/23
授权公告日:
2011/10/19
专利权人:
大连理工大学
发明人:
张振宇;周红秀;郭东明;高航;康仁科
摘要:
一种化学机械磨削液制备方法,属于软脆功能晶体磨削抛光加工技术领域,特别涉及II-VI化合物软脆功能晶体磨削抛光加工方法。其特征是化学机械磨削液不含任何游离磨料,表面分散剂、氧化剂、活性剂,只是由溴、去离子水或蒸馏水、硝酸、有机酸的一种、有机醇的一种、无机酸的一种组成。溴与有机醇的体积百分比为1-5%,硝酸∶无机酸∶有机酸体积百分比为0.5-1∶3-5∶10-20,用去离子水或者蒸馏水稀释至pH值为2.0-3.2之间即可配制成化学机械磨削液。本磨削液采用了化学腐蚀与化学反应两种方式去除材料,具有较高的材料去除率,并有效避免了游离磨料的嵌入、划伤、微裂纹、塑性变形等缺陷,达到高效无应力超精密磨削与抛光的效果。
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