微波等离子体基低能离子注入小管径金属圆管内表面装置（专利号：200910311349.6）

日期: 2015-03-30浏览:

专利号：	200910311349.6
申请日：	2009/12/13
授权公告日：	2012/3/21
专利权人：	大连理工大学
发明人：	雷明凯;欧伊翔;吴志立;高峰

摘要：
一种微波等离子体基低能离子注入小管径金属圆管内表面装置，包括真空室(7)和低能离子注入电源(10)，属于材料表面工程技术领域。其特殊之处在于：由微波源(1)、微波同轴波导内导体(2)和外导体(3)、微波同轴波导短路活塞(5)和外加磁场线圈(9)构成线性ECR微波等离子体源，利用微波缝隙辐射天线(4)的激发和电离作用，在外加磁场激励下，沿被处理金属管件(11)中心轴线形成周向和轴向均匀分布的高密度ECR微波等离子体，结合低能离子注入电源(10)施加的低脉冲负偏压和同轴设置的辅助外热源(8)，在金属圆管内表面完成等离子体基低能离子注入。其优点是：成本低；能实现小管径、大长径比金属圆管内表面的等离子体基低能离子注入。