一种研磨涂覆晶种层生长制备沸石膜方法（专利号：200510200900.1）

日期: 2015-03-30浏览:

专利号：	200510200900.1
申请日：	2005/12/30
授权公告日：	2012/9/12
专利权人：	大连理工大学
发明人：	王金渠;祝刚;鲁金明;鲍仲瑛

摘要：
本发明属于化学工程技术领域的无机膜制备方法，涉及到一种研磨涂覆晶种层生长制备沸石膜方法。其特征是按照一定的Na2O：SiO2：Al2O3：H2O的摩尔配比配制出凝胶, 合成出微米级的晶粒, 经研磨后用溶剂分散制备出纳米或亚微米级晶种悬浮液, 在多孔支撑体上，以提拉法涂上晶种层，经干燥和焙烧固化后, 放入不锈钢釜中，注入按一定的Na2O：SiO2：Al2O3：H2O的摩尔比配制的凝胶液将其浸没，密封后置于160-180℃的温度下，恒温40-60小时, 最后经取出, 洗涤, 干燥和焙烧后得到沸石膜。本发明降低了纳米或亚微米级晶种层制备的难度，沸石膜制备重复性好，适合工业规模制备和应用；对载体粗糙度限制低；具有实用性和通用性,对其它种类沸石膜的制备有重要借鉴意义。

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