一类含有咔唑结构的强荧光氟硼二吡咯染料（专利号：200910011731.5）

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专利号：	200910011731.5
申请日：	2009/5/24
授权公告日：	2013/6/5
专利权人：	大连理工大学
发明人：	肖义;张大奎

摘要：
本发明属于有机化工和精细化工技术领域中一类含有咔唑结构的强荧光氟硼二吡咯染料，由于含有咔唑结构的强荧光氟硼二吡咯染料及其衍生物的制备方法采用氟硼二吡咯与带取代基的咔唑醛为原料，它们的摩尔比为1∶2～5，哌啶为催化剂，4分子筛为脱水剂，氟硼二吡咯与催化剂的摩尔比为1∶0.01～0.20，在有机溶剂中，100～150℃，在氩气或氮气保护下，搅拌反应8～50h，咔唑醛与氟硼二吡咯活泼亚甲基脱水生成氟硼二吡咯衍生物，在氟硼二吡咯上引入带有不同取代基的咔唑结构后，改变了氟硼二吡咯化合物光性质，使其吸收光谱红移80纳米，发射光谱红移90纳米，保持较高荧光量子产率0.67，激光效率达30％以上，得到一类含有咔唑结构的强荧光的氟硼二吡咯衍生物。

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