基于超声雾化水汽的KDP晶体微纳潮解超精密抛光方法（专利号：201210111555.4）

日期: 2015-03-30浏览:

专利号：	201210111555.4
申请日：	2012/4/16
授权公告日：	2014/2/5
专利权人：	大连理工大学
发明人：	郭东明;高航;王旭;康仁科;张和平

摘要：
本发明涉及一种基于超声雾化水汽的KDP晶体微纳潮解超精密抛光方法。其特征是，先利用超声产生水雾，与洁净干燥气体混合成为洁净水雾气体；在抛光头压在晶体表面上，通洁净水雾气体，晶体表面接触到潮湿气体部分微量水解，形成一层溶解层；然后将抛光头旋转，抛光垫将高点溶解层去除；真空源将多余潮湿气体吸走；抛光头进行小区域局部抛光，保证抛光在局部区域的均匀性；最后，根据由材料去除率函数R(r，θ)和各点去除量H(x，y)求得的驻留时间函数，抛光工具在计算机控制下抛光，实现晶体表面全局平坦化。本方法不使用传统意义上的抛光液，无需在抛光结束后对晶体表面进行清洗；加工过程中无机械加工应力，是一种真正意义上的无损伤微纳加工方法。

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