基于水解反应气相均匀沉积TiO2薄膜的方法（专利号：201310415632X）

摘要：

    本发明公开一种基于水解反应气相均匀沉积TiO2薄膜的方法，其特征在于通过沉积头（3）的中心出气口（4）和两侧出气口（5），分别将含有钛前驱物和水蒸气的气流，输送至相对匀速移动的基底（1）表面，钛前驱物和水蒸气在基底表面发生反应，均匀沉积形成TiO2薄膜。可在大气压和低温（10～100℃）下气相均匀沉积TiO2薄膜，所制备的TiO2薄膜是一种富含羟基的无定形结构，无需任何后续热处理在紫外光辐照下具有较高光催化活性，不仅具有沉积速率快、均匀性好、工艺和装置简单、操作方便等优点，而且还可节省能量、降低制作成本，可适用于各种材质的基底，尤其适用于非耐热材质的基底。