一、产品和技术简介：

目前在工业上广泛采用的CVD技术制备硅膜，工艺和设备复杂，成本高，且在安全和环保环节上投入巨大。我们在国内首创出了微晶硅薄膜的PVD法沉积工艺，在温度低于300度的条件下，在单晶硅片和普通玻璃片上制备出不同结晶度的微晶硅薄膜和纳米结构硅薄膜，可以得到具有高度<111>方向取向生长的微晶硅薄膜，并实现了控制工艺的稳定性和可重复性。利用磁控溅射技术成功实现微晶硅薄膜的制备是一项重大突破，从根本上克服了现有技术的缺点，具有绿色、高效、简单等优点。目前需要合作伙伴，把该实验室技术放大到工业规模。

二、应用范围：

硅基薄膜材料在现代半导体工业中有着广泛的应用，例如在液晶显示器、微电子器件、电脑存储元件以及太阳电池等领域，硅基薄膜材料都发挥着至关重要的作用。尤其在被人们称为“绿色”能源的太阳电池领域，硅基薄膜材料有着无可限量的应用前景，基于微晶硅薄膜材料为基础的新一代硅基太阳电池是现今全世界的研究热点，被人们寄予了厚望。

三、生产条件：

属于真空镀膜技术的一种。

四、成本估算：

与普通磁控溅射想比，增加了等离子体源，提高了溅射离化率，增加设备成本约10%，每台设备价值在150万左右。但是相对于CVD技术而言，由于无需处理废气和安全保护，设备和运行成本大大下降。

五、规模与投资：

需要与合作方协商决定。

五、提供技术的程度和合作方式：

我们提供设备制造技术和相关制造工艺，同时我们拥有先进的材料表征手段，可提供材料结构和性能数据。

合作方提出进行设备放大并实施批量生产。

六、市场与效益：

太阳能薄膜电池的传统制造过程中会产生大量污染及耗费大量能源。本项目提供的技术属于国内独有的前沿技术，是太阳能薄膜电池生产所最求的新一代技术，具有重大应用价值，尤其在强调绿色制造的今天。